半 光 鎳XY-662

一、簡介

半光鎳XY-662適用于印刷電路板打線或一般全面鎳等半光澤鍍鎳工程，可得到極低內(nèi)應(yīng)力，且操作電流密度范圍寬，可適用于氨基磺酸鎳浴及硫酸鎳浴。

二、鍍液組成及操作條件

標(biāo)準(zhǔn) 范圍

鎳離子 75 g/l             60-90 g/l

氯化鎳 15 g/l             10-20 g/l

硼酸 40 g/l             30-50 g/l

XY-662             8 ml/l             5-15 ml/l

溫度 50℃               45-55℃

PH 值              4.0                3.8-4.5

電流密度 2ASD               0.5-6ASD

攪拌 擺動(dòng)，過濾循環(huán)，無油無塵空氣攪拌

陽極 鎳角

陰陽極面積比 1：2

三、槽液管理

1． 操作方法

每操作1000安培小時(shí)，補(bǔ)充XY-662  250-350毫升。

2． 分析法

（1） 光澤劑以哈氏槽實(shí)驗(yàn)后校正。

（2） 其它含量依分析添加。

3．如有針孔發(fā)生時(shí)，添加濕潤劑1-2毫升/升，如需額外補(bǔ)充則表示槽液已受污染。

四、分析方法

1、氯化鎳

取樣5ml,加入適量純水，加入4滴K₂Cr₂O₄指示劑。

以0.1NAgNO₃滴定至桔紅色沉淀形成。

氯化鎳（g/l）=2.37*mls

2、總鎳含量

取樣1ml于250 ml錐形瓶中，加50-100 ml水，加PH=10的緩沖液10 ml，加MX指示劑，以0.1M  EDTA滴至紅紫色。

總鎳含量（g/l）=5.87* mls

3、硼酸

取樣2ml于250 ml錐形瓶中，加50-100 ml水，加2克甘露醇，加3-5滴BCP指示劑，以0.1 N NaOH滴定至藍(lán)色。

硼酸（g/l）=3.08* mls

4、氨基磺酸鎳含量=（總鎳含量-氯化鎳含量*0.2463）÷0.1818

五、鍍鎳問題與解決方法

問題	可能原因	解決方法
脫皮 鍍層起泡	鍍前處理不良	加強(qiáng)前處理
	中間斷電時(shí)間過長	排除故障
	有機(jī)雜質(zhì)污染	活性炭處理
	電流密度過大	調(diào)整電流密度
	溫度太低	提高溫度
	鍍液PH值太高或太低	測量PH值并調(diào)整
麻點(diǎn) 鍍層有針孔	潤濕劑不夠	需適量補(bǔ)充濕潤劑
	金屬雜質(zhì)或有機(jī)污染	脫缸或炭處理
	前處理不良	加強(qiáng)前處理
	過濾不良	檢查過濾系統(tǒng)
	硼酸含量太少	補(bǔ)加至規(guī)定值
	鍍液溫度太低	適當(dāng)提高溫度
有毛刺 鍍層粗糙	鍍液中有固體懸浮物，過濾不良	檢查過濾系統(tǒng)是否正常
	PH值太高形成氫氧化物沉淀	調(diào)整PH值
	陽極袋破損	更換陽極袋
	電流密度太高	計(jì)算、測量、調(diào)整電流
	補(bǔ)加水時(shí)帶入鈣離子	補(bǔ)加純凈水
灰或黑色 低電流區(qū) 鍍層不夠	鍍前處理不良或底鍍層不良	檢查并處理前處理情況
	電流密度太小	提高電流密度
	主鹽濃度太低	調(diào)高主鹽濃度
	陰極電接觸不良	檢查陰極電流接觸情況
	Cu2+、Zn+等雜質(zhì)引起	按各自的方法將雜質(zhì)處理
陽極鈍化	陽極電流密度過大	增加陽極面積
	鍍液中氯化鎳含量太低	補(bǔ)加氯化鎳
燒焦 鍍層	溫度過低，電流密度太高	調(diào)高溫度，降低電流
	鎳鹽濃度太低	補(bǔ)加鎳鹽
	PH值太高	調(diào)整PH值
性大 鍍層脆	Cu2+或有機(jī)雜質(zhì)過多	活性炭或電流處理
	PH值太高	降低PH值
	溫度過低	升高溫度
	添加劑太少	適當(dāng)補(bǔ)加添加劑

鎳槽液的配制及維護(hù)

一、 槽體的清洗

1、 用3%的片堿浸泡各槽8-12小時(shí)，用自來水沖洗干凈。

2、 用3%的硫酸中和各槽體8-12小時(shí)，用自來水沖洗干凈。

3、 檢查槽體及過濾系統(tǒng)，看是否滲漏藥水。

4、 用純水將各槽沖洗干凈備用。

二、 陽極袋鈦籃的清洗

1、 用3%的片堿浸泡20-30分鐘，用自來水沖洗干凈。

2、 用3%的硫酸中和20分鐘，先用自來水沖洗干凈再用純水洗干凈備用。

三、 鎳角的清洗

1、 用1%的雙氧水和3%硫酸浸泡10-20分鐘，若鎳角是含硫的，要改為直接用2-5%鹽酸浸泡10-20分鐘。

2、 先用自來水沖洗干凈再用純水洗干凈即可。

四、 配制

1、 在處理槽中加二分之一槽體積的純水。

2、 依次加如計(jì)量好的氨基磺酸鎳（或是硫酸鎳）、氯化鎳、硼酸。

3、 加熱至60℃；（氨基磺酸鎳槽液最好不要超過65℃，否則易分解）

4、 加活性碳粉5-6克每升，攪拌2-3小時(shí)，靜止4-8小時(shí)。

5、 將濾泵裝好棉芯，循環(huán)吸入加有助濾粉的水，直到棉芯上有足夠的助濾粉，再把鍍液抽入鍍缸。（也可以使用過濾紙裹住棉芯進(jìn)行過濾抽回鍍缸）

6、 將清洗干凈的陽極掛入鍍缸中，補(bǔ)加純水至所需液位。

7、 把槽液溫度升至50℃，分析并調(diào)整各成份，使其均在操作工藝范圍內(nèi)。

8、 用0.3-0.5A/dm²的電流密度電解8-12小時(shí)。

9、 補(bǔ)加鎳添加劑，用1.5 A/dm²電解1-2小時(shí)后試板。

備注：開缸所用主鹽一定要用電鍍級(jí)原料，若原料純度低，(1)要在加活性碳前先加30%雙氧水2-3毫升每升，加熱至60℃，打氣并保持1-2小時(shí)。(2)要在步驟6后調(diào)節(jié)PH值至3.0，以瓦楞形陰極板用0.3-0.5 A/dm²電流密度電解至板面呈白色一致，再將槽液PH值調(diào)至4.0。

五、 維護(hù)

1、定期分析槽液各成份并補(bǔ)充，鎳離子、氯化鎳及硼酸要每周至少分析兩次，哈氏片試驗(yàn)最好每天一次。

2、槽液PH值和溫度要每班至少測量一到兩次。

3、電鍍槽液原物料補(bǔ)加后要及時(shí)做好保養(yǎng)（一次補(bǔ)加較多原物料時(shí)，一定要進(jìn)行碳芯過濾和電解），以免因原物料的純度而影響了電鍍效果。

4、日常保養(yǎng)，a.連續(xù)生產(chǎn)時(shí)每天要用0.3-0.5A/d㎡電流密度電解1-2小時(shí)；b.為控制槽液有雜質(zhì)帶入，每班必須更換鎳缸前的水洗，最好使用純水；c.連續(xù)生產(chǎn)時(shí)要每周用碳芯過濾一次，棉芯要連續(xù)過濾；d.每半年做一次活性碳處理。

5、最好做到帶電入缸。

六、活性碳處理步驟

1、將鍍液轉(zhuǎn)至清洗干凈的備用槽中。

2、取出陽極清洗，用5-10%硫酸浸泡1-2小時(shí)后，用純水清洗干凈裝入清洗干凈的鈦籃內(nèi)。

3、 加入35%的雙氧水8-10mL/L。

4、 加熱溶液至60-65℃，保持此溫度持續(xù)攪拌2小時(shí)。

5、 加活性碳8-12g/L，最好分兩次加入，持續(xù)攪拌2小時(shí)，溫度要保持在60-65℃。

6、 停止加溫，靜止槽液6-8小時(shí)。

7、 用過濾機(jī)加過濾助劑濾除活性碳后，將槽液抽回清洗干凈的電鍍槽內(nèi)，（也可以使用過濾紙裹住棉芯進(jìn)行過濾）。

8、 將清洗干凈的陽極掛入鍍缸中，補(bǔ)加純水至所需液位。

9、 分析并調(diào)整各成份，使其均在操作工藝范圍內(nèi)。

10、 用0.3-0.5A/dm²的電流密度電解8-12小時(shí)。

11、 做哈氏槽試驗(yàn)，補(bǔ)加試驗(yàn)中所需添加劑量的2/3，再用1.0A/dm²的電流密度電解1-2小時(shí)后試板。